核心提示：的高精真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵，新设备经过优化，适用于LED制造中使用的MOCVD工艺，以及在栅堆叠(gate stack)中使用III-V材料的化合物半导体制造工艺。

新型iXH645H干泵在严苛的制造环境中仅需zui少维护并实现正常运行时间zui大化

英国西萨塞克斯郡，克劳雷(2012年7月3日)的高精真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵，新设备经过优化，适用于LED制造中使用的MOCVD工艺，以及在栅堆叠(gate stack)中使用III-V材料的化合物半导体制造工艺。请参观Edwards公司在InterSolar展会和SEMICON/West展会的5351号展台，以便了解有关iXH系列的更多信息。上述两个展会将于2012年7月10-12日在美国加利福尼亚州旧金山举办。

iXH645H提供了非常高的气流量，并能够在一代LED制造设备所需的高负载下连续工作。iXH系列干泵采用*的技术，zui大限度地减少了维护需求，并实现正常运行时间zui大化，有助于降低成本。

Edwards公司LED市场邵伟称：“iXH系列干泵的新成员是设计用于满足两个快速发展的高技术制造细分市场的需求。由于具备出色的照明效率，LED照明产品逐渐被视为白炽灯照明的环保替代选择，我们看到，中国、韩国、日本和英国zui近通过立法，将逐步淘汰传统的大功率照明产品。”

邵伟补充道：“同时，在化合物半导体制造中使用III-V材料，正在推动摩尔定律(Moore’s Law)延续到下一代设计节点。”

LED和化合物半导体制造工艺通常使用大流量氕气和高腐蚀性氨气。iXH645H业已进行设计优化以满足这些要求，具有出色的氢气抽空性能并采用耐腐蚀设计，包括一个保护泵密封物的氮气吹扫屏障（purge barrier）。XH645泵具有高温工作能力，有助于防止可能出现的磷化合物冷凝。另外，该泵*的油润滑和密封技术省去了定期保养需求，同时其散热和电机设计可以防止出现过热、电机过载或工作区域受限等问题。iXH645H泵的优化温度控制系统确保泵在约30分钟启动时间内为工艺做好准备。